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韩国企业KC Tech突破半导体材料自主化_蜘蛛资讯网
目标将表面粗糙度与碟形坑（Dishing）控制在0.5微米以下。目前已掌握核心CMP技术，正推进材料与工艺的匹配优化，兼顾低介电、低损耗及平坦化结构设计。 该技术可应用于高端FC-BGA基板、中介层（Interposer）、玻璃通孔（TGV）、面板级封装（PLP）及高频平台。KC Tech称，CMP在
通信息C指数2021-2025年年度历史收益分别为：-9.54%、-34.47%、-0.25%、21.58%、39.30%。指数过往业绩不预示未来表现。 根据IDC数据，26Q1中国AI芯片市场规模同比增长87.2%，其中国产AI芯片份额首次突破55%，同比提升21个百分点；在政务、金融、能源等关键行业领域，国产AI芯片采购占比已超70%。方正证券指出，国内AI芯片厂商正积极切换为国产供应链，而
工艺挑战。据5月7日行业消息，该公司正承担韩国产业通商资源部国家课题“大尺寸积层薄膜与超微图案工艺开发”，重点研发下一代BuF用CMP平坦化工艺。 BuF是半导体封装中关键绝缘材料，当前市场由日本味之素ABF主导。随着AI与高性能芯片普及，线路宽度已缩至5微米以下，传统数微米级二氧化硅（SiO₂）填料
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